Calendário SINOVA

No calendário da Sinova, você encontra os eventos relacionados à inovação, ao empreendedorismo, à propriedade intelectual e à criatividade que acontecem na UFSC. A opção de assinatura permite que você adicione nosso calendário na sua agenda favorita e se mantenha sempre informado.

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Curso Avançado a Distância de Busca de Informações de Patentes – DL 318P BR
Curso Avançado a Distância de Busca de Informações de Patentes – DL 318P BR
abr 5 – jul 10 dia inteiro
Objetivo: Este curso avançado tem como objetivo aprofundar, exemplificar e praticar os conceitos da busca de informação patentária. O treinamento é composto de atividades práticas que complementam princípios teóricos da busca de informação tecnológica. Também são[...]
Curso Avançado a Distância de Marcas, Desenhos Industriais e Indicações Geográficas – DL 302P BR
Curso Avançado a Distância de Marcas, Desenhos Industriais e Indicações Geográficas – DL 302P BR
abr 5 – jul 10 dia inteiro
Objetivo: Este curso avançado  se destina a fornecer material online sobre aspectos de PI estritamente relacionados ao comércio e à concorrência em um mercado globalizado. O curso também se destina a promover conscientização e qualificação em alguns[...]
Curso Avançado a Distância de Noções Básicas de Redação de Patentes – DL 320P BR
Curso Avançado a Distância de Noções Básicas de Redação de Patentes – DL 320P BR
abr 5 – jul 10 dia inteiro
Objetivo: Este curso avançado tem como objetivo introduzir os participantes aos conceitos da redação de um pedido de patente, dando ênfase às estratégias de busca e a estrutura básica do pedido de patente. O curso apresenta ainda[...]
Curso Avançado a Distância de Patentes – DL 301P BR
Curso Avançado a Distância de Patentes – DL 301P BR
abr 5 – jul 10 dia inteiro
Objetivo: Este curso avançado se destina a explicar princípios relacionados com patentes, assim como o impacto econômico das patentes, patenteamento, transferência de tecnologia, pools de patentes e o uso tradicional de patentes por centros de pesquisa e universidades.[...]
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